一种低温治疗系统，包括具有主体、近端和远端的细长装置，其被构造成位于中空器官内，包括：低温路径，其将低温流体源与装置的远端流体连接，其中，低温路径被构造成允许低温流体流入中空器官；光学组件，其在主体内，被配置为可视化装置远端和中空器官内的目标区域之间的视场；清洗路径，其包括在装置远端处的至少一个清洗开口，其中，清洗路径将清洗流体源与至少一个清洗开口连接，并且被构造为在中空器官内释放清洗流体；至少一个减流器，其在清洗路径内，被构造成使清洗流体流过的清洗路径的内腔变窄。

　　细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸被设

　　低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所述远

　　端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空器官

　　光学组件，乐鱼app注册其在所述细长主体内，具有远端，被配置为可视化所述装置远端与所述中空

　　清洗流入路径，其在所述细长主体内，包括在所述装置远端处的至少一个清洗开口，其

　　中，所述清洗流入路径将清洗流体源与所述至少一个清洗开口流体连接，并且被构造成在

　　至少一个减流器，其位于所述清洗流入路径内，其形状和尺寸被设置成使所述清洗流

　　2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个减流器阻塞所述清洗流入路径的内

　　3.根据权利要求1或2中任一项所述的系统，其中，所述至少一个开口位于所述清洗流

　　入路径的壁中，以使清洗流体朝向所述远端中的所述光学组件和/或朝向远离所述光学组

　　4.根据权利要求3所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成远离所述至少一个清

　　洗开口，并被构造成增加包括所述至少一个开口的所述清洗流入路径的一部分内的清洗流

　　5.根据权利要求3所述的系统，其中，所述至少一个减流器位于包括所述至少一个清洗

　　6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述至少一个减流器包括至少一个通道或形成通

　　道的对齐的开口，其在所述至少一个减流器中与所述至少一个开口流体连通，被构造成引

　　导清洗流体通过所述至少一个减流器到所述至少一个清洗开口，或者将流体从所述中空器

　　7.根据权利要求3至6中任一项所述的系统，其中，乐鱼app注册所述清洗流入路径包括在所述清洗

　　流入路径的远端处的至少一个远端清洗开口，其被构造成将清洗流体释放到定位成远离所

　　8.根据权利要求7所述的系统，其中，所述至少一个减流器位于所述清洗流入路径内靠

　　9.根据权利要求7所述的系统，其中，所述至少一个远端清洗开口是所述至少一个减流

　　10.根据权利要求7至9中任一项所述的系统，其中，所述低温流入路径包括至少一个远

　　端开口，其被构造成将低温流体释放到所述处理空间中和/或朝向所述中空器官内的处理

　　目标释放，并且其中，所述至少一个清洗开口至少部分地围绕所述低温流入路径远端开口。

　　11.根据权利要求3至10中任一项所述的系统，其中，所述至少一个减流器接触所述清

　　12.根据权利要求11所述的系统，其中，所述至少一个减流器成形为与所述清洗流入路

　　13.根据权利要求11所述的系统，其中，所述至少一个减流器包括从所述清洗流入路径

　　14.根据权利要求3至13中任一项所述的系统，其中，所述至少一个开口包括多个开口，

　　所述多个开口轴向地和/或成角度地分布在面对所述光学组件和/或所述FOV的所述清洗流

　　15.根据权利要求1至13中任一项所述的系统，其中，所述至少一个开口包括多个开口，

　　所述多个开口轴向地和/或成角度地分布在至少部分地围绕所述清洗流入路径内腔的所述

　　16.根据权利要求14或15中任一项所述的系统，其中，所述多个开口具有不同的形状

　　17.根据权利要求14至16中任一项所述的系统，其中，所述多个开口均匀地分布在所述

　　18.根据权利要求14至17中任一项所述的系统，其中，所述多个开口以不同的按面积计

　　19.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成靠近所述至少一个

　　清洗开口，并被构造成增加通过所述至少一个清洗开口离开进入所述中空器官的清洗流体

　　20.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成远离所述清洗流体

　　流入路径，并且包括一个或多个开口，所述开口与所述至少一个清洗开口对齐，以允许清洗

　　21.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述低温治疗装置包括在所述细长

　　主体内的至少一个流体排出流动路径，其具有在所述至少一个流体排出流动路径的远端处

　　的至少一个第一排出开口，以及在所述排出流动路径的壁的周缘上的至少一个第二排出开

　　并且其中，所述至少一个流体排出流动路径被构造成通过所述至少一个第一排出开口

　　22.根据权利要求21所述的系统，其中，所述低温治疗装置包括至少一个排出密封件，

　　其位于所述至少一个第一排出开口和所述至少一个第二排出开口之间的所述至少一个流

　　体排出流动路径内，并被构造成阻塞至少10％的排出流体流过所述至少一个第一排出开

　　23.根据权利要求22所述的系统，其中，所述光学组件的远端定位成远离所述第二排出

　　开口，并且其中，所述至少一个排出密封件位于所述光学组件远端和所述至少一个第二排

　　24.根据权利要求21至23中任一项所述的系统，包括围绕所述装置的外套筒，并且其

　　中，所述至少一个第二排出开口是所述外套筒中的开口或者与所述外套筒中的至少一个开

　　25.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述至少一个清洗开口具有在

　　26.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述低温流入路径和所述清洗流入

　　27.根据权利要求1至25中任一项所述的系统，其中，所述清洗流入路径沿着所述低温

　　28.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，在所述光学组件远端处的所述光学

　　组件的表面是弯曲的或相对于所述低温治疗装置的长轴成角度，并且其中，所述至少一个

　　29.根据权利要求28所述的系统，其中，在所述光学组件远端处的所述光学组件表面基

　　细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中所述装置的形状和尺寸被设置

　　低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所述远

　　端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空器官

　　至少一个流体排出流动路径，其在所述细长主体内，具有在所述至少一个流体排出流

　　动路径的远端处的至少一个第一排出开口，以及在所述排出流动路径的壁的周缘上的至少

　　一个第二排出开口，其中，所述第一排出开口定位成远离所述至少一个第二排出开口；

　　其中，所述至少一个流体排出流动路径被配置为通过所述至少一个第一排出开口和/

　　至少一个排出密封件，其位于所述至少一个第一排出开口和所述至少一个第二排出开

　　口之间的所述至少一个流体排出流动路径内，并被构造成阻塞至少10％的排出流体流过所

　　具有远端的光学组件，其至少部分地位于所述细长主体内，其中，所述光学组件被配置

　　其中，所述光学组件远端定位成远离所述至少一个第二排出开口，并且其中，所述至少

　　32.根据权利要求31所述的系统，包括围绕所述装置的外套筒，并且其中所述至少一个

　　第二排出开口是所述外套筒中的开口或者与所述外套筒中的至少一个开口流体连通。

　　细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸被设

　　低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所述远

　　端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空器官

　　清洗流入路径，其在所述细长主体内，包括在所述装置远端处的轴向地和/或成角度地

　　分布在所述清洗流入路径的壁中的多个清洗开口，其中，所述清洗流入路径将清洗流体源

　　与所述多个清洗开口流体连接，并且其中，所述清洗流入路径被构造成通过所述多个清洗

　　34.根据权利要求33所述的系统，其中，所述多个清洗开口均匀地分布在所述壁中。

　　35.根据权利要求33所述的系统，其中，所述多个清洗开口以不同的按面积计算的开口

　　36.根据权利要求33至35中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口具有不同的形

　　37.根据权利要求33至36中任一项所述的系统，其中，所述多个开口根据所述开口的形

　　状和/或宽度被分成两组或更多组开口，其中，每个两组或更多组中的开口具有类似的形状

　　38.根据权利要求33至37中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口位于围绕和/

　　39.根据权利要求33至37中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口位于所述清洗

　　流入路径的所述壁的部分中，所述部分围绕所述流入路径的周缘的至少10％和/或在两个

　　40.根据权利要求33至39中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口具有在0.01mm

　　光学组件，其具有远端，位于所述细长主体内，被配置为可视化所述装置远端与所述中

　　空器官内的目标区域之间的视场，并且其中，所述多个开口中的至少一些开口位于所述清

　　洗流入路径的所述壁中，以面对所述光学组件的所述远端，并且朝向所述光学组件远端递

　　42.根据权利要求33至35中任一项所述的系统，其中，所述清洗流入路径包括狭窄部

　　分，并且其中，所述多个开口中的至少一些开口位于所述狭窄部分的壁处，并对所述中空器

　　细长低温治疗装置，具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸被设置

　　低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所述远

　　端流体连接，其中，所述低温流入路径包括开口，其被构造成将低温流体从所述低温流体源

　　其中，在所述远端处的所述装置的至少一个表面被预处理以防止或减少一个或多个液

　　44.根据权利要求43所述的系统，其中，所述装置包括在所述细长主体内的清洗流入路

　　径，其包括在所述装置远端处的至少一个清洗开口，并且被构造成在所述中空器官内释放

　　清洗流体，并且其中，所述至少一个经预处理的表面是所述清洗流入路径的外表面。

　　45.根据权利要求43或44中任一项所述的系统，其中，所述装置包括光学组件，其具有

　　远端，位于所述细长主体内，被构造成可视化所述装置远端与所述中空器官内的目标区域

　　46.根据权利要求43至45中任一项所述的系统，其中，所述至少一个表面涂覆有亲水涂

　　在将所述低温流体递送到所述中空器官之前、期间和/或之后，通过具有狭窄部分的清

　　48.根据权利要求47所述的方法，其中，所述清洗释放包括通过所述清洗流体流入路径

　　49.根据权利要求47或48中任一项所述的方法，其中，所述释放包括通过位于所述清洗

　　流体流入路径的壁处并靠近所述狭窄部分或在所述狭窄部分中的至少一个清洗开口将所

　　50.根据权利要求47至49中任一项所述的方法，其中，所述释放包括通过所述清洗流体

　　51.根据权利要求47至50中任一项所述的方法，其中，所述引入包括经由套筒将所述低

　　通过位于所述中空器官内的至少一个透镜或孔，可视化所述中空器官中的处理空间，

　　所述低温流体被递送到所述处理空间中，并且其中，所述排出包括通过所述套筒的周缘中

　　54.根据权利要求47至53中任一项所述的方法，其中，所述至少一个清洗开口包括具有

　　不同尺寸和/或宽度或直径的多个清洗开口，并且其中，所述释放包括根据所述多个开口的

　　每个开口的形状、尺寸和/或直径，通过所述多个开口，在所述中空器官内的不同方向上释

　　55.根据权利要求47至54中任一项所述的方法，其中，所述中空器官包括单个开口，并

　　且其中，所述引入包括通过所述单个开口将所述低温治疗装置引入所述中空器官。

　　56.根据权利要求47至55中任一项的方法，其中，所述中空器官包括膀胱，并且其中，所

　　[0002]本申请要求于2021年5月13日基于美国专利法第119(e)条提交的美国临时专利申

　　[0005]在本发明的一些实施例中，本发明涉及一种低温治疗装置，更具体地，但不排他

　　[0006]以下列出的本发明的一些实施例的一些示例可包括的特征是来自多于一个示例

　　[0008]细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸

　　[0009]低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所

　　述远端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空

　　[0010]光学组件，其在所述细长主体内，具有远端，被配置为可视化所述装置远端与所述

　　[0011]清洗流入路径，其在所述细长主体内，包括在所述装置远端处的至少一个清洗开

　　口，其中，所述清洗流入路径将清洗流体源与所述至少一个清洗开口流体连接，并且被构造

　　[0012]至少一个减流器，其位于所述清洗流入路径内，其形状和尺寸被设置成使所述清

　　[0013]示例2、根据示例1所述的系统，其中，所述至少一个减流器阻塞所述清洗流入路径

　　[0014]示例3、根据示例1或2所述的系统，其中，所述至少一个开口位于所述清洗流入路

　　径的壁中，以使清洗流体朝向所述远端中的所述光学组件和/或朝向远离所述光学组件的

　　[0015]示例4、根据示例3所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成远离所述至少一

　　个清洗开口，并被构造成增加包括所述至少一个开口的所述清洗流入路径的一部分内的清

　　[0016]示例5、根据示例3所述的系统，其中，所述至少一个减流器位于包括所述至少一个

　　[0017]示例6、根据示例5所述的系统，其中，所述至少一个减流器包括至少一个通道或形

　　成通道的对齐的开口，其在所述至少一个减流器中与所述至少一个开口流体连通，被构造

　　成引导清洗流体通过所述至少一个减流器到所述至少一个清洗开口，或者将流体从所述中

　　[0018]示例7、根据示例3至6中任一项所述的系统，其中，所述清洗流入路径包括在所述

　　清洗流入路径的远端处的至少一个远端清洗开口，其被构造成将清洗流体释放到定位成远

　　[0019]示例8、根据示例7所述的系统，其中，所述至少一个减流器位于所述清洗流入路径

　　[0020]示例9、根据示例7所述的系统，其中，所述至少一个远端清洗开口是所述至少一个

　　[0021]示例10、根据示例7至9中任一项所述的系统，其中，所述低温流入路径包括至少一

　　个远端开口，其被构造成将低温流体释放到所述处理空间中和/或朝向所述中空器官内的

　　处理目标释放，并且其中，所述至少一个清洗开口至少部分地围绕所述低温流入路径远端

　　[0022]示例11、根据示例3至10中任一项所述的系统，其中，所述至少一个减流器接触所

　　[0023]示例12、根据示例11所述的系统，其中，所述至少一个减流器成形为与所述清洗流

　　[0024]示例13、根据示例11所述的系统，其中，所述至少一个减流器包括从所述清洗流入

　　[0025]示例14、根据示例3至13中任一项所述的系统，其中，所述至少一个开口包括多个

　　开口，所述多个开口轴向地和/或成角度地分布在面对所述光学组件和/或所述FOV的所述

　　[0026]示例15、根据示例1至13中任一项所述的系统，其中，所述至少一个开口包括多个

　　开口，所述多个开口轴向地和/或成角度地分布在至少部分地围绕所述清洗流入路径内腔

　　[0027]示例16、根据示例14或15所述的系统，其中，所述多个开口具有不同的形状和/或

　　[0028]示例17、根据示例14至16中任一项所述的系统，其中，所述多个开口均匀地分布在

　　[0029]示例18、根据示例14至17中任一项所述的系统，其中，所述多个开口以不同的按面

　　[0030]示例19、根据示例1所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成靠近所述至少

　　一个清洗开口，并被构造成增加通过所述至少一个清洗开口离开进入所述中空器官的清洗

　　[0031]示例20、根据示例1所述的系统，其中，所述至少一个减流器定位成远离所述清洗

　　流体流入路径，并且包括一个或多个开口，所述开口与所述至少一个清洗开口对齐，以允许

　　[0032]示例21、根据前述示例中任一项所述的系统，其中，所述低温治疗装置包括在所述

　　细长主体内的至少一个流体排出流动路径，其具有在所述至少一个流体排出流动路径的远

　　端处的至少一个第一排出开口，以及在所述排出流动路径的壁的周缘上的至少一个第二排

　　[0033]并且其中，所述至少一个流体排出流动路径被构造成通过所述至少一个第一排出

　　开口和/或通过所述至少一个第二排出开口从所述中空器官去除流体和/或颗粒。

　　[0034]示例22、根据示例21所述的系统，其中，所述低温治疗装置包括至少一个排出密封

　　件，其位于所述至少一个第一排出开口和所述至少一个第二排出开口之间的所述至少一个

　　流体排出流动路径内，并被构造成阻塞至少10％的排出流体流过所述至少一个第一排出开

　　[0035]示例23、根据示例22所述的系统，其中，所述光学组件的远端定位成远离所述第二

　　排出开口，并且其中，所述至少一个排出密封件位于所述光学组件远端和所述至少一个第

　　[0036]示例24、根据示例21至23中任一项所述的系统，包括围绕所述装置的外套筒，并且

　　其中，所述至少一个第二排出开口是所述外套筒中的开口或者与所述外套筒中的至少一个

　　[0037]示例25、根据前述示例中任一项所述的系统，其中，所述至少一个清洗开口具有在

　　[0038]示例26、根据前述示例中任一项所述的系统，其中，所述低温流入路径和所述清洗

　　[0039]示例27、根据示例1至25中任一项所述的系统，其中，所述清洗流入路径沿着所述

　　[0040]示例28、根据前述示例中任一项所述的系统，其中，在所述光学组件远端处的所述

　　光学组件的表面是弯曲的或相对于所述低温治疗装置的长轴成角度，并且其中，所述至少

　　[0041]示例29、根据示例28所述的系统，其中，在所述光学组件远端处的所述光学组件表

　　[0043]细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中所述装置的形状和尺寸被

　　[0044]低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所

　　述远端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空

　　[0045]至少一个流体排出流动路径，其在所述细长主体内，具有在所述至少一个流体排

　　出流动路径的远端处的至少一个第一排出开口，以及在所述排出流动路径的壁的周缘上的

　　至少一个第二排出开口，其中，所述第一排出开口定位成远离所述至少一个第二排出开口；

　　[0046]其中，所述至少一个流体排出流动路径被配置为通过所述至少一个第一排出开口

　　[0047]至少一个排出密封件，乐鱼app注册其位于所述至少一个第一排出开口和所述至少一个第二排

　　出开口之间的所述至少一个流体排出流动路径内，并被构造成阻塞至少10％的排出流体流

　　[0049]具有远端的光学组件，其至少部分地位于所述细长主体内，其中，所述光学组件被

　　[0050]其中，所述光学组件远端定位成远离所述至少一个第二排出开口，并且其中，所述

　　[0051]示例32、根据示例31所述的系统，包括围绕所述装置的外套筒，并且其中所述至少

　　一个第二排出开口是所述外套筒中的开口或者与所述外套筒中的至少一个开口流体连通。

　　[0053]细长低温治疗装置，其具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸

　　[0054]低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所

　　述远端流体连接，其中，所述低温流入路径被构造成允许从所述低温流体源进入所述中空

　　[0055]清洗流入路径，其在所述细长主体内，包括在所述装置远端处轴向地和/或成角度

　　地分布在所述清洗流入路径的壁中的多个清洗开口，其中，所述清洗流入路径将清洗流体

　　源与所述多个清洗开口流体连接，并且其中，所述清洗流入路径被构造成通过所述多个清

　　[0056]示例34、根据示例33所述的系统，其中，所述多个清洗开口均匀地分布在所述壁

　　[0057]示例35、根据示例33所述的系统，其中，所述多个清洗开口以不同的按面积计算的

　　[0058]示例36、根据示例33至35中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口具有不同

　　[0059]示例37、根据示例33至36中任一项所述的系统，其中，所述多个开口根据所述开口

　　的形状和/或宽度被分成两组或更多组开口，其中，每个两组或更多组中的开口具有类似的

　　[0060]示例38、根据示例33至37中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口位于围绕

　　[0061]示例39、根据示例33至37中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口位于所述

　　清洗流入路径的所述壁的部分中，所述部分围绕所述流入路径的周缘的至少10％和/或在

　　[0062]示例40、根据示例33至39中任一项所述的系统，其中，所述多个清洗开口具有在

　　[0064]光学组件，其具有远端，位于所述细长主体内，被配置为可视化所述装置远端与所

　　述中空器官内的目标区域之间的视场，并且其中，所述多个开口中的至少一些开口位于所

　　述清洗流入路径的所述壁中，以面对所述光学组件的所述远端，并且朝向所述光学组件远

　　[0065]示例42、根据示例33至35中任一项所述的系统，其中，所述清洗流入路径包括狭窄

　　部分，并且其中，所述多个开口中的至少一些开口位于所述狭窄部分的壁处，并对所述中空

　　[0067]细长低温治疗装置，具有细长主体、近端和远端，其中，所述装置的形状和尺寸被

　　[0068]低温流入路径，其在所述细长主体内，其将低温流体源与所述低温治疗装置的所

　　述远端流体连接，其中，所述低温流入路径包括开口，其被构造成将低温流体从所述低温流

　　[0069]其中，在所述远端处的所述装置的至少一个表面被预处理以防止或减少一个或多

　　[0070]示例44、根据示例43所述的系统，其中，所述装置包括在所述细长主体内的清洗流

　　入路径，其包括在所述装置远端处的至少一个清洗开口，并且被构造成在所述中空器官内

　　释放清洗流体，并且其中，所述至少一个经预处理的表面是所述清洗流入路径的外表面。

　　[0071]示例45、根据示例43或44中任一项所述的系统，其中，所述装置包括光学组件，具

　　有远端，位于所述细长主体内，被构造成可视化所述装置远端与所述中空器官内的目标区

　　[0073]示例46、根据示例43至45中任一项所述的系统，其中，所述至少一个表面涂覆有亲

　　[0076]通过所述低温治疗装置的低温流体流入路径将低温流体递送到所述中空器官中；

　　[0077]在将所述低温流体递送到所述中空器官之前、期间和/或之后，通过具有狭窄部分

　　[0078]示例48、根据示例47所述的方法，其中，所述清洗释放包括通过所述清洗流体流入

　　[0079]示例49、根据示例47或48所述的方法，其中，所述释放包括通过位于所述清洗流体

　　流入路径的壁处并靠近所述狭窄部分或在所述狭窄部分中的至少一个清洗开口将所述清

　　[0080]示例50、根据示例47至49中任一项所述的方法，其中，所述释放包括通过所述清洗

　　[0081]示例51、根据示例47至50中任一项所述的方法，其中，所述引入包括经由套筒将所

　　[0085]通过位于所述中空器官内的至少一个透镜或孔，可视化所述中空器官中的处理空

　　间，所述低温流体被递送到所述处理空间中，并且其中，所述排出包括通过所述套筒的周缘

　　[0086]示例54、根据示例47至53中任一项所述的方法，其中，所述至少一个清洗开口包括

　　具有不同尺寸和/或宽度或直径的多个清洗开口，并且其中，所述释放包括根据所述多个开

　　口的每个开口的形状、尺寸和/或直径，通过所述多个开口，在所述中空器官内的不同方向

　　[0087]示例55、根据示例47至54中任一项所述的方法，其中，所述中空器官包括单个开

　　口，并且其中，所述引入包括通过所述单个开口将所述低温治疗装置引入所述中空器官。

　　[0088]示例56、根据示例47至55中任一项的方法，其中，所述中空器官包括膀胱，并且其

　　[0089]除非另有定义，否则本文使用的所有技术和/或科学术语具有与本发明所属领域

　　的普通技术人员通常理解的相同的含义。尽管与本文所述的方法和材料类似或等同的方法

　　和材料可用于本发明实施例的实践或测试中，但下文描述了示例性方法和/或材料。在冲突

　　的情况下，以专利说明书(包括定义)为准。此外，材料、方法和实施例仅是说明性的，而不是

　　[0090]如本领域技术人员将理解的，本发明的一些实施例可以被实现为系统、方法或计

　　算机程序产品。因此，本发明的一些实施例可以采取完全硬件实施例、完全软件实施例(包

　　括固件、驻留软件、微代码等)或结合软件和硬件方面的实施例的形式，这些实施例在这里

　　通常都被称为“电路”、“模块”或“系统”。此外，本发明的一些实施例可以采取在一个或多个

　　计算机可读介质中实现的计算机程序产品的形式，具有在其上实现的计算机可读程序代

　　码。本发明的一些实施例的方法和/或系统的实现可以涉及手动地、自动地或其组合地执行

　　和/或完成所选择的任务。此外，根据本发明的方法和/或系统的一些实施例的实际仪器和

　　设备，可以通过硬件、软件或固件和/或其组合(例如，使用操作系统)来实现几个选择的任

　　[0091]例如，用于执行根据本发明的一些实施例的所选任务的硬件可以被实现为芯片或

　　电路。作为软件，根据本发明的一些实施例的所选任务可以被实现为由使用任何合适的操

　　作系统的计算机执行的多个软件指令。在本发明的示例性实施例中，根据本文描述的方法

　　和/或系统的一些示例性实施例的一个或多个任务由数据处理器执行，诸如用于执行多个

　　指令的计算平台。可选地，数据处理器包括用于存储指令和/或数据的易失性存储器和/或

　　非易失性存储器，例如，磁硬盘和/或可移动介质。可选地，还提供网络连接。还可选地提供

　　[0092]一个或多个计算机可读介质的任何组合可以用于本发明的一些实施例。计算机可

　　读介质可以是计算机可读信号介质或计算机可读存储介质。计算机可读存储介质可以是，

　　例如但不限于，电子、磁、光学、电磁、红外或半导体系统、装置或设备或前述的任何合适的

　　组合。计算机可读存储介质的更具体的示例(非穷举列表)将包括以下：具有一条或多条导

　　线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)、可擦除可

　　编程只读存储器(EPROM或闪存)、光纤、便携式光盘只读存储器(CD‑ROM)、光学存储设备、磁

　　性存储设备或前述的任何合适的组合。在本文档的上下文中，计算机可读存储介质可以是

　　可以包含或存储由指令执行系统、装置或设备使用或与指令执行系统、装置或设备结合使

　　[0093]计算机可读信号介质可以包括其中包含有计算机可读程序代码的传播数据信号，

　　例如，在基带中或作为载波的一部分。这种传播的信号可以采用多种形式中的任一种，包括

　　但不限于电磁、光学或其任何合适的组合。计算机可读信号介质可以是不是计算机可读存

　　储介质并且可以传送、传播或传输由指令执行系统、装置或设备使用或结合指令执行系统、

　　[0094]包含在计算机可读介质上的程序代码和/或由此使用的数据可以使用任何适当的

　　介质来发送，包括但不限于无线、有线、光缆、RF等，或前述的任何适当的组合。

　　[0095]用于执行本发明的一些实施例的操作的计算机程序代码可以用一种或多种编程

　　语言的任意组合来编写，包括面向对象的编程语言，诸如Java、Smalltalk、C++等，以及常规

　　的过程编程语言，诸如“C”编程语言或类似的编程语言。程序代码可以完全在用户的计算机

　　上执行、部分在用户的计算机上执行、作为独立的软件包执行、部分在用户的计算机上执行

　　并且部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在后一种情况下，

　　远程计算机可以通过任何类型的网络(包括局域网(LAN)或广域网(WAN))连接到用户的计

　　[0096]下面可以参考根据本发明实施例的方法、装置(系统)和计算机程序产品的流程图

　　和/或框图来描述本发明的一些实施例。应当理解，流程图和/或框图的每个块以及流程图

　　和/或框图中的块的组合可以由计算机程序指令来实现。这些计算机程序指令可以被提供

　　给通用计算机、专用计算机或其它可编程数据处理装置的处理器以产生机器，使得经由计

　　算机或其它可编程数据处理装置的处理器执行的指令创建用于实现流程图和/或框图块中

　　[0097]这些计算机程序指令还可以存储在计算机可读介质中，该计算机可读介质可以引

　　导计算机、其它可编程数据处理装置或其它设备以特定方式运行，使得存储在计算机可读

　　介质中的指令产生包括实现在流程图和/或框图块中指定的功能/动作的指令的制品。

　　[0098]计算机程序指令还可以被加载到计算机、其它可编程数据处理装置或其它装置

　　上，以使得在计算机、其它可编程装置或其它设备上执行一系列操作步骤，从而产生计算机

　　实现的过程，使得在计算机或其它可编程装置上执行的指令提供用于实现在流程图和/或

　　[0099]本文所述的一些方法通常仅被设计成供计算机使用，并且对于由人类专家纯粹手

　　动地执行来说可能是不可行的或不实用的。希望手动执行类似任务(诸如确定体腔内的压

　　力和/或温度)的人类专家可能预期使用完全不同的方法，例如利用专家知识和/或人脑的

　　[0100]本文仅通过示例并参考附图来描述本发明的一些实施例。现在详细地具体参考附

　　图，强调的是，所示的细节是通过示例的方式，并且是为了对本发明的实施例进行说明性的

　　讨论。在这一点上，结合附图进行的描述对于本领域的技术人员来说，如何实践本发明的实

　　[0102]图1A是根据本发明的一些示例性实施例的用于施加清洗流体并控制清洗流体的

　　[0103]图1B是根据本发明的一些示例性实施例的用于递送低温治疗的系统的框图；

　　[0104]图2A是根据本发明一些示例性实施例的位于体腔内的低温治疗装置远端的示意

　　[0105]图2B是根据本发明一些示例性实施例的图2A的低温治疗装置远端的示意性前视

　　[0106]图3是根据本发明的一些示例性实施例的在低温治疗装置的不同位置处具有液滴

　　[0107]图4A‑图4D是根据装置的一些示例性实施例的在装置的不同位置处具有多个清洗

　　[0108]图5A‑图5B是根据本发明一些示例性实施例的具有轴向和周向分布在清洗流体通

　　[0109]图5C‑图5E是根据本发明的一些示例性实施例的具有被划分成不同区域的开口的

　　清洗流体通道的示意图，其中，在一个区域处的开口部分地周向分布在清洗流体通道的外

　　[0110]图6A和图6B是示出根据本发明的一些示例性实施例的当覆盖可视化组件远端的

　　整个表面时的清洗流体开口的分布的示意图，可视化组件远端可选地包括窗口或透镜；

　　[0111]图6C和图6D是示出根据本发明的一些示例性实施例的当部分地覆盖可视化组件

　　远端的表面时的清洗流体开口的分布的示意图，可视化组件远端可选地包括窗口或透镜；

　　[0112]图6E和图6F是根据本发明的一些示例性实施例的包括至少一个排出流密封件的

　　[0113]图7A和图7B是根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗装置远端的示意性纵

　　[0114]图7C是根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗装置远端的示意性纵向横截

　　[0115]图7D是根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗装置远端的示意性纵向横截

　　面图，其具有在清洗流体通道中的内部减流器和分布在通道表面上的多个单独的开口；

　　[0116]图8A‑图8B是根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗装置远端的示意性横截

　　面图，其具有至少一个远离清洗开口定位的减流器，清洗开口例如在附加减流器内的清洗

　　[0117]图8C是示出根据本发明一些示例性实施例的具有围绕远端低温流体开口的开口

　　[0118]图8D和图8E是示出根据本发明一些示例性实施例的包括具有多个开口的清洗流

　　[0119]图8F和图8G是示出根据本发明一些示例性实施例的低温治疗装置的远端的示意

　　[0120]图9是根据本发明一些示例性实施例的低温治疗装置远端的示意性纵向横截面

　　图，其中，在体腔中所述低温治疗装置的暴露于低温流体的外表面的至少一个区域是非光

　　[0121]图10A‑图10C是根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗装置远端的纵向横截

　　面图，其在远端(10A)处具有直立的垂直表面、在远端(10B)处具有倾斜的表面或者在远端

　　[0122]在本发明的一些实施例中，本发明涉及一种低温治疗装置，更具体地，但不排他

　　地，涉及一种用于治疗中空器官疾病的低温治疗装置。在一些实施例中，中空器官疾病包括

　　膀胱癌、间质性膀胱炎、膀胱活动过度、胃浅表性肿瘤病变、浅表性胃癌和/或腹壁肿瘤。

　　[0123]一些实施例的一方面涉及控制体腔(例如，中空器官)内的清洗流体的流动，以破

　　坏现有的液滴和/或防止在体腔内的低温治疗装置的表面上形成液滴。在一些实施例中，至

　　少一个清洗流入路径(例如，低温治疗装置的清洗流体通道)内的清洗流体的流动由至少一

　　个减流器(例如，位于清洗流体通道内的减流器)控制。在一些实施例中，至少一个减流器使

　　清洗流体通道狭窄，例如至少部分地阻塞清洗流体通道至少10％，例如至少30％、至少

　　50％、至少70％、至少90％或清洗流体通道的任何中间、较小或较大的狭窄百分比。

　　[0124]根据一些实施例，在清洗流体通道内的至少一个减流器控制清洗流体通过清洗流

　　体通道的一个或多个远端开口的流动，远端开口例如面向前的开口，可选地面向目标区域。

　　在一些实施例中，至少一个减流器控制通过开口流出的清洗流体的压力、通过清洗流体通

　　道的一个或多个远端开口流出的清洗流体的流速和/或方向中的至少一个。可选地，至少一

　　个减流器位于清洗流体通道的远端，并且使清洗流体通道的一个或多个远端开口狭窄和/

　　[0125]根据一些实施例，至少一个减流器包括位于减流器的周缘上的一个或多个开口或

　　通道，其被构造成将清洗流体引导至清洗通道的周缘上的侧向开口。在一些实施例中，减流

　　器开口的宽度确定了被引导到清洗通道开口的清洗流体的量和/或减流器开口内的清洗流

　　体的压力中的至少一个。在一些实施例中，减流器内的通道的角度，例如相对于清洗流体通

　　道的轴线的角度，决定了清洗流体从清洗通道向外喷射的角度。在一些实施例中，相对于减

　　流器开口的宽度，通道内的清洗流体速度流动控制流体流动通道内的压力，例如，高速的清

　　[0126]根据一些示例性实施例，至少一个内部减流器通道和/或开口的形状、尺寸和/或

　　对准设置成以相对于清洗流体通道的外表面的在10‑170度，例如10‑50度、30‑100度、90‑

　　170度范围内的选定偏转角或任何中间、较小或较大的角度喷射清洗流体。替代地或附加

　　地，多个内部减流器通道和/或开口的形状、尺寸和/或对准设置成在体腔内以相对于低温

　　治疗装置的表面和/或相对于光学表面的在0‑90度，例如0‑30度、10‑40度、20‑70度、50‑90

　　[0127]根据一些示例性实施例，低温治疗装置包括清洗流体通道内的至少一个减流器，

　　其位于距清洗流体通道的周缘上的开口一定距离处，开口例如可选地面向可视化组件的表

　　面的侧向开口，本文在一些实施例中也将可视化组件称为光学组件。在一些实施例中，至少

　　一个减流器的近端位于离周缘上的开口至少0.5mm的距离处，例如离清洗流体通道的周缘

　　上的至少一个开口至少1mm、至少5mm、至少20mm或任何中间距离、或更小或更大的距离处。

　　[0128]一些实施例的一方面涉及具有预定布置、尺寸和分布的在清洗流体通道的周缘上

　　的清洗流体通道开口，例如用于控制体腔内的清洗流体的流动和方向。在一些实施例中，多

　　个清洗流体开口轴向和/或周向分布在体腔内的至少一个清洗流体通道的周缘上。在一些

　　实施例中，可选地多个清洗流体开口的形状、尺寸、布置和/或位置设置成将清洗流体导向

　　遭受液滴的形成或附着的低温治疗装置远端处的表面，例如以破坏已经附着到该表面上的

　　现有液滴和/或防止液滴在该表面上的附着或形成。替代地或附加地，可选地多个清洗流体

　　开口的形状、尺寸、布置和/或位置设置成将清洗流体导向至少一个排出流动路径的内腔，

　　例如以清理流动路径并防止液滴堵塞排出流动路径。替代地或附加地，可选地多个清洗流

　　体开口的形状、尺寸、布置和/或位置设置成将清洗流体导向可视化组件和处理区域之间的

　　[0129]根据一些实施例，多个开口可选地具有类似的形状和/或尺寸。替代地，至少一些

　　开口可选地具有不同的形状和/或尺寸。在一些实施例中，多个开口具有的尺寸，例如最大

　　[0130]根据一些实施例，多个开口轴向地和/或周向地分布在清洗流体通道的外表面上，

　　例如在面向至少一个选定位置的壁的至少一个区域内，例如面向可视化组件和经处理的组

　　织之间的视场(FOV)的壁的至少一个区域、面向可视化组件的壁的至少一个区域和/或面向

　　排出流动路径的内腔或开口的壁的至少一个区域。在一些实施例中，多个开口沿清洗流体

　　通道的周缘周向分布。替代地或附加地，多个开口中的至少一些开口沿着周缘的一部分分

　　布，例如沿着对着小于360度、小于180度、小于90度或任何中间、较小或较大的值的的角度

　　的圆弧分布。替代地或附加地，多个开口中的至少一些开口沿着与所述清洗流体通道连接

　　[0131]根据一些实施例，多个清洗开口位于清洗通道的壁的一部分中，例如围绕和/或沿

　　着清洗流入路径的清洗流入路径。替代地或附加地，多个清洗开口位于清洗流入路径的壁

　　的部分中，该部分围绕流入路径的周缘的至少5％(例如至少10％、至少20％、至少30％或任

　　何中间、较小或较大的数值范围)，和/或在两个相邻开口之间保持至少0.05mm(例如至少

　　[0132]根据一些实施例，多个开口中的至少一些开口具有不同的形状和/或尺寸。在一些

　　实施例中，多个开口中的至少一些开口布置成开口阵列。在一些实施例中，多个开口均匀地

　　[0133]控制清洗流体的流动的潜在优点可以是允许有效地去除妨碍可视化的液滴，并且

　　可以促进或转移低温霜到敏感位置，例如，光学透镜上的液滴、管上的液滴和排出路径内的

　　[0134]根据一些实施例，低温治疗装置被设计成具有不同形状和/或尺寸的清洗流体开

　　口，例如根据临床应用、根据中空器官和/或根据中空器官中的湿度水平。例如，在一些实施

　　例中，如果体腔中的清洗压力低并且外部环境压力高，则清洗流开口被设计成非常小，例如

　　或较大数值范围内，可选地防止液体从体腔进入清洗通道。替代地，如果体腔中的清洗压力

　　高和/或外部环境压力低，则清洗流体开口的尺寸在0.5‑2mm的范围内，例如0.5mm‑1mm、

　　0.7mm‑1.5mm、1mm‑2mm或任何中间、较小或较大数值范围内。在一些实施例中，根据特定的

　　临床应用和/或特定的中空器官来选择具有特定的清洗流开口布置的低温治疗装置。

　　[0135]一些实施例的一方面涉及围绕低温治疗装置的可视化组件引导流体和颗粒从体

　　腔内的处理空间排出。在一些实施例中，从处理空间和/或体腔中排出的流体流被导向靠近

　　可视化组件的远端的一个或多个排出开口。在一些实施例中，一个或多个排出开口是位于

　　体腔内的低温治疗装置的外套筒中的开口。在一些实施例中，一个或多个排出开口是穿过

　　套筒的内腔的至少一个排出通道的开口，或者一个或多个排出开口朝向至少一个排出通道

　　[0136]根据一些实施例，低温治疗装置包括至少一个排出密封件，例如远端排出密封件，

　　其被构造成至少部分地阻止流体和颗粒通过远端(例如排出通道的面向前的开口)的排出。

　　在一些实施例中，面向前的开口是在体腔内面向处理空间和/或低温治疗的目标的排出通

　　道的开口。在一些实施例中，至少一个远端排出密封件将流体和颗粒通过排出通道的面向

　　前的开口的通道减少至少50％，例如至少60％、至少70％、至少80％、至少90％或任何中间、

　　[0137]根据一些示例性实施例，远端排出密封件轴向地位于低温治疗装置上靠近可视化

　　组件远端。在一些实施例中，远端排出密封件位于可视化组件的远端和外套筒中的排出开

　　[0138]在一些实施例中，通过排出密封件阻塞流体和颗粒的通道将流体和颗粒引导到可

　　[0139]根据一些实施例，远端排出密封件是可调节的密封件。在一些实施例中，可以调节

　　密封件中的至少一个开口的尺寸，例如以增加或减少流体和/或颗粒流入至少一个排出通

　　道。在一些实施例中，密封开口尺寸根据从至少一个传感器接收的信号来调节，信号可选地

　　[0140]一些实施例的一方面涉及对低温治疗装置的表面进行改进或预处理，以便防止或

　　减少液滴在改进表面上的附着和/或形成。在一些实施例中，表面的至少一部分被改进成非

　　光滑粗糙表面。在一些实施例中，非光滑粗糙表面改变，例如降低液滴和表面之间的粘合力

　　[0141]根据一些示例性实施例，预处理表面可选地在制造期间形成，例如通过用亲水性

　　或疏水性涂层涂覆表面。替代地，例如通过喷砂、电蚀刻或其它表面热处理形成非光滑粗糙

　　[0142]一些实施例的一方面涉及通过至少一个排出侧开口从中空器官排出流体。在一些

　　实施例中，至少一个排出侧开口位于低温治疗装置主体(例如套筒)的周缘上。在一些实施

　　例中，至少一个排出开口包括多个排出开口。在一些实施例中，多个排出开口轴向地和/或

　　[0143]根据一些实施例，多个开口中的至少一些开口位于可视化组件的远端附近，可选

　　[0144]处理表面的潜在优点可以是防止或减少液滴的积聚或形成、减小液滴轮廓，例如

　　在对清洗流体的接近受限的位置处或在清洗流体流动不足以干燥或破碎液滴的位置处，引

　　[0145]根据一些实施例，本文的方法、系统和/或装置用于治疗膀胱癌，例如通过向膀胱

　　[0146]根据一些实施例，低温治疗装置包括细长主体，可选地包括管状主体。在一些实施

　　例中，至少一个清洗流体通道在细长主体内通过，可选地至少部分地围绕装置的低温流体

　　通道。在一些实施例中，清洗流体从清洗通道的至少一个开口释放，可选地朝向位于清洗通

　　[0147]根据一些实施例，如本文所述，控制清洗流体朝向可视化组件和/或朝向FOV的释

　　放在不包括低温流体通道的装置中执行，例如包括可视化组件和清洗流体通道的装置。在

　　一些实施例中，该装置包括减流器、多个开口或通道中的至少一个，用于控制清洗流体朝向

　　可视化组件的释放。包括低温流体通道的潜在优点是它可以减少插入中空器官的装置的数

　　[0148]在详细解释本发明的至少一个实施例之前，应当理解，本发明在其应用中不必限

　　于以下描述中阐述的和/或附图和/或实施例中所示的部件和/或方法的构造和布置的细

　　[0150]根据一些示例性实施例，低温消融治疗，例如低温治疗，通过低温治疗装置在体腔

　　(例如中空器官)内递送。在一些实施例中，体腔是具有单个开口的体腔，其可选地是狭窄

　　的。在一些实施例中，体腔可选地包括体液和/或湿度。在一些实施例中，体腔内的低温流体

　　的释放可以导致液滴和/或霜形成在体腔内、在低温治疗装置的至少一个表面上、在低温治

　　疗装置的至少一个内腔内和/或在插入到体腔中的附加装置的表面上。在一些实施例中，为

　　了对液滴和/或霜执行防止、减少和去除中的至少一个，施加清洗流体。现在参考图1A，示出

　　了根据本发明的一些示例性实施例的在体腔(例如中空器官)内施加清洗流体的过程。

　　[0151]根据一些示例性实施例，在框40处，将低温治疗装置的至少一部分引入体腔中。在

　　一些实施例中，低温治疗装置的远端可选地被引入到体腔中。在一些实施例中，低温治疗装

　　置的远端包括至少一个低温流体释放开口和至少一个排出开口，低温流体释放开口被构造

　　成将低温流体引入体腔，排出开口被构造成将流体从体腔去除。在一些实施例中，低温治疗

　　装置的远端可选地包括至少一个用于将清洗流体递送到体腔中的清洗流体开口。在一些实

　　施例中，低温治疗装置的远端还包括可视化组件，例如透镜、光学传感器、相机、光纤端或光

　　纤束端中的至少一个，其被配置成允许体腔(例如体腔的内表面)的可视化。在一些实施例

　　中，可视化装置被构造成允许对远端和/或低温治疗装置的远端和体腔的内表面之间的处

　　[0152]根据一些示例性实施例，体腔(例如中空器官)包括膀胱、肾盂、子宫、胃或腹部。在

　　一些实施例中，在框40处，低温治疗装置通过身体开口(例如体腔的解剖开口)或侵入端口

　　(例如最小侵入端口)被引入体腔。在一些实施例中，最小侵入性端口包括腹腔镜端口，例如

　　腹腔镜端口。在一些实施例中，体腔包括膀胱，并且在框40处，低温治疗装置可选地通过尿

　　道引入到膀胱中。替代地，该装置可选地通过腹腔镜套管针、至子宫、食道至胃等引入

　　[0153]根据一些示例性实施例，在框45处可选地施加清洗流体，例如释放到体腔中。在一

　　些实施例中，清洗流体被施加，例如以清理可视化区域，或者当将装置导航到体腔中和/或

　　在体腔内导航时扩展狭窄开口。在一些实施例中，可选地施加清洗流体，例如以允许清楚地

　　[0154]根据一些示例性实施例，在框45处，清洗流体可选地通过位于清洗流体流入路径

　　的周缘上的至少一个清洗流体开口释放到体腔中。在一些实施例中，清洗流体流入路径包

　　括其中流速增加的狭窄部分。在一些实施例中，清洗流体可选地通过位于狭窄部分附近的

　　至少一个清洗流体开口释放到体腔中。替代地或附加地，清洗流体可选地通过位于所述狭

　　窄部分中的至少一个清洗流体开口释放到体腔中。替代地或附加地，清洗流体可选地通过

　　[0155]根据一些示例性实施例，在框50处可选地扩张体腔。在一些实施例中，体腔在将低

　　温治疗装置引入体腔之前扩张。替代地，体腔通过低温治疗装置扩张。在一些实施例中，体

　　腔被扩张，例如以允许更好地可视化体腔的内表面。替代地或附加地，体腔被扩张以便使体

　　腔的内表面变平，例如允许在体腔中释放的低温流体更好地接近体腔中的目标区域，例如

　　[0156]根据一些示例性实施例，在框50处通过经由低温治疗装置的至少一个开口将可扩

　　张的低温流体释放到体腔中来可选地扩张体腔。替代地或附加地，在框50处，从低温治疗装

　　[0157]根据一些示例性实施例，在框60处，低温流体被释放到体腔中。在一些实施例中，

　　低温流体可选地通过至少一个开口释放，例如在低温治疗装置的远端处的喷嘴。在一些实

　　施例中，释放的低温流体扩张体腔并降低体腔内的温度，例如在体腔内的限定目标组织处，

　　以例如烧蚀目标区域中的组织。可选地，低温流体被导向目标区域或导向低温治疗装置的

　　[0158]根据一些示例性实施例，在框65处可视化体腔。在一些实施例中，在框60处，例如

　　在低温流体的释放之前、期间和/或之后，与低温流体的释放呈定时关系地可视化体腔。在

　　一些实施例中，在框65处可视化体腔中的目标区域或处理空间中的至少一个。在一些实施

　　[0159]根据一些示例性实施例，在框70处，可选地接收关于体腔中的液滴和/或霜的形成

　　的指示。在一些实施例中，该指示是从可视化组件接收的视觉指示。替代地，从低温治疗装

　　置的至少一个传感器接收指示，例如从位于低温治疗装置的远端处的和/或沿着低温治疗

　　装置定位的至少一个传感器接收指示。在一些实施例中，至少一个传感器包括温度传感器、

　　流量传感器、湿度传感器和/或图像传感器。在一些实施例中，联接到低温治疗装置的控制

　　单元(例如控制单元的控制电路)接收基于从可视化组件和/或至少一个传感器接收的信号

　　[0160]根据一些示例性实施例，在框80处施加清洗流体。在一些实施例中，响应于在框70

　　处可选地接收到的指示来施加清洗流体。替代地，清洗流体的施加是预防性过程，例如，无

　　需在框70处接收指示而施加清洗流体。在一些实施例中，间歇地施加清洗流体，可选地施加

　　短脉冲串。在一些实施例中，间歇地(例如每0.1秒、每0.5秒、每2秒或任何中间、较小或较长

　　的时间周期)施加清洗流体。在一些实施例中，将清洗流体(例如清洗液体或清洗气体)施加

　　到体腔中。在一些实施例中，将清洗流体向以下至少一项施加：可视化组件的至少部分、处

　　理目标、处理空间、位于体腔中的低温治疗装置的至少一个表面。在一些实施例中，施加清

　　洗流体以防止在体腔中形成液滴和/或霜。替代地或附加地，可选地施加清洗流体以防止液

　　滴附着和/或积聚在体腔中、低温治疗装置的表面或开口上和/或可视化组件上。替代地或

　　附加地，可选地施加清洗流体以防止霜附着和/或积聚在体腔中、低温治疗装置的表面或开

　　口上和/或可视化组件上。替代地或附加地，可选地施加清洗流体，以便清理可视化组件的

　　[0161]根据一些示例性实施例，在框80处通过低温治疗装置的至少一个开口，例如在低

　　温治疗装置的远端处的至少一个开口施加清洗流体。在一些实施例中，至少一个开口包括

　　多个开口。在一些实施例中，多个开口位于低温治疗装置的远端处的两个或更多个位置处。

　　[0162]根据一些示例性实施例，在框80处，清洗流体通过位于清洗流体流入路径的周缘

　　上的至少一个清洗开口释放到体腔中。在一些实施例中，清洗流体流入路径包括其中清洗

　　流体流速增加的狭窄部分。在一些实施例中，清洗流体可选地通过位于狭窄部分附近的至

　　少一个清洗流体开口释放到体腔中。替代地或附加地，清洗流体可选地通过位于狭窄部分

　　中的至少一个清洗流体开口释放到体腔中。替代地或附加地，清洗流体可选地通过远离狭

　　[0163]根据一些示例性实施例，在框90处控制清洗流体的流动。在一些实施例中，通过将

　　清洗流体通过具有预定尺寸、预定形状和/或预定位置的开口施加以控制清洗流体的流动。

　　在一些实施例中，所有清洗流体开口的尺寸和/或形状是相同的。替代地，至少一些清洗流

　　体开口具有不同的形状和/或尺寸。在一些实施例中，开口的尺寸、形状和/或位置允许控制

　　体腔内的清洗流体的分布和/或方向。替代地或附加地，开口的尺寸、形状和/或位置确定清

　　洗流体相对于低温治疗装置和/或可视化组件的至少一个外表面的分布和/或方向。

　　[0164]根据一些示例性实施例，在框90处，例如通过控制在低温治疗装置内朝向开口引

　　导的清洗流体的量来控制清洗流体的流动。在一些实施例中，例如通过控制低温治疗装置

　　内的清洗流体流动路径的宽度来控制朝向开口引导的清洗流体的量。替代地或附加地，例

　　如通过控制或限制清洗流体流动的通道的内部横截面来控制朝向开口引导的清洗流体的

　　量。替代地或附加地，例如通过打开至少一个阀，例如在清洗流体通道中的阀，来控制朝向

　　[0165]根据一些示例性实施例，在框100处，流体从体腔中被排出。在一些实施例中，流体

　　从体腔中被排出，例如以便在体腔内保持目标，例如预定的压力级别和/或温度级别。替代

　　地或附加地，流体从体腔中排出，例如以允许在框65处更好地可视化。替代地或附加地，在

　　一些实施例中，在框45和/或80处施加清洗流体之前、期间和/或之后，流体从体腔中被排

　　出。替代地或附加地，响应于从至少一个温度和/或至少一个压力传感器接收的信号，流体

　　[0166]根据一些示例性实施例，在框40处，流体通过细长中空主体中的至少一个排出侧

　　开口被排出，细长中空主体例如是在引入低温治疗装置期间使用的套管或套管。在一些实

　　施例中，至少一个排出侧开口是在套管或套管的周缘上的开口。在一些实施例中，至少一个

　　排出侧开口位于体腔内。替代地或附加地，流体通过位于体腔内的低温治疗装置的至少一

　　[0168]根据一些示例性实施例，低温治疗系统包括被构造成至少部分地插入体腔中的低

　　温治疗探针，以及连接到低温治疗装置的控制单元。在一些实施例中，控制单元位于身体外

　　部。现在参考图1B，图1B示出了根据本发明的一些示例性实施例的低温治疗系统。

　　[0169]根据一些示例性实施例，低温治疗系统100包括低温治疗探针，例如低温治疗装置

　　102，以及连接到低温治疗装置102的控制单元104。在一些实施例中，低温治疗装置102，例

　　如低温治疗装置的主体，是细长的探针，其具有远端121和近端125，可选地该远端121的形

　　状和尺寸被设计成可导入体腔中并面向腔的内表面中的目标区域，该近端125可选地位于

　　体腔外部。可选地，低温治疗装置102，例如低温治疗装置的主体是中空的，例如允许在装置

　　主体内定位一个或多个流动路径、一个或多个通道和/或组件，例如光学组件。在一些实施

　　例中，低温治疗装置102是圆柱形的，并且在低温治疗装置的远端121处和围绕它的套筒处

　　具有在3mm至15mm范围内的直径，例如3mm、5mm、7mm、9mm或任何中间、较小或较大的值。在一

　　些实施例中，不包括套筒的低温治疗装置的直径在0.3mm至5mm的范围内，例如在0.3mm至

　　些实施例中，低温治疗装置102的形状和尺寸被设计成通过内窥镜的工作通道引入体腔。替

　　代地，将低温治疗装置102通过低温治疗系统的中空细长主体，例如套管124引入体腔中。替

　　代地，低温治疗装置102的外部形状被构建成被引入体腔/具有将被引入体腔的专用结构

　　[0170]替代地，低温治疗系统包括内窥镜和低温治疗装置，内窥镜可选地包括可视化组

　　[0171]根据一些示例性实施例，低温治疗装置102包括从近端125到远端121的低温治疗

　　装置的至少一个流动路径，例如内腔或通过内腔的通道。在一些实施例中，至少一个流动路

　　径用作朝向远端121并进入体腔的流入路径，以及用作从体腔朝向近端125的流出路径。在

　　一些实施例中，低温治疗装置102包括至少一个流入路径，例如用于将流体递送到体腔中的

　　流入通道106。附加地或可选地，低温治疗装置102包括至少一个流出路径，例如流出通道

　　[0172]根据一些示例性实施例，流出路径，例如流出通道110包括至少一个流出流调节

　　器，例如阀123，用于控制材料的通过，例如流体或颗粒通过流出路径。在一些实施例中，至

　　少一个阀123包括至少一个止回阀，其被构造成当体腔内的压力超过预定值时可选地被动

　　地打开。可选地，流出流调节器位于低温治疗装置102的近端125附近，位于身体外部。

　　[0173]根据一些示例性实施例，流入通道106包括至少一个低温喷嘴129，例如面向前的

　　低温喷嘴和/或面向侧面的低温喷嘴，其被构造成将低温流体(例如低温气体和/或低温液

　　体)朝向体腔的内表面上的选定目标区域喷射。可选地，低温流体以高压储存。在一些实施

　　例中，并且不受任何理论的束缚，体腔内的高压低温流体的扩张迅速降低流体的压力，这导

　　[0174]根据一些示例性实施例，低温喷嘴129是可调低温喷嘴，被构造成以小于或大于90

　　度的角度向目标区域喷射低温流体。替代地，低温喷嘴129是固定角度的低温喷嘴，以不同

　　于90度的角度固定，例如15度、30度、45度、55度或任何不同于90度的中间、较小或较大角

　　度。替代地，该角度为90度。在一些实施例中，可调低温喷嘴被构造成例如通过调节低温喷

　　嘴的开口直径来控制通过喷嘴释放到体腔的喷射的低温流体的量。替代地或附加地，通过

　　[0175]根据一些示例性实施例，低温治疗装置102包括至少一个光学组件，例如电线页

　　纤、光学棱镜、光学路径，可选地光学通道118，用于将面向低温治疗装置102的远端121的组

　　织的图像和/或视觉信号递送到位于身体外部的光学传感器，例如控制单元104中的光学传

　　感器，或者递送到外部光学组件。例如，不同控制单元的光学组件。替代地，光学组件包括至

　　少一个光学传感器，例如在低温治疗装置102的远端121处的光学传感器122，其被配置为感

　　测面向低温治疗装置102的远端121的组织的视觉信号，例如体腔内的目标区域的图像和/

　　或视觉信号。替代地，光学组件包括传感器，可选地包括超音速(US)传感器或磁共振(MR)传

　　[0176]根据一些示例性实施例，低温治疗装置102包括至少一个照明源，例如照明源119。

　　在一些实施例中，照明源119位于低温治疗装置的远端121处，可选地面向体腔的组织。替代

　　[0177]根据一些示例性实施例，光学通道118是光纤、一组光纤或光缆中的至少一个或包

　　括光纤、一组光纤或光缆中的至少一个。在一些实施例中，当光学通道118是光纤、一组光纤

　　或光缆中的至少一个或包括光纤，一组光纤或光缆中的至少一个时，光源位于身体外部，并

　　且可选地，光学传感器位于身体外部。替代地或可选地，光学通道118包括至少一个LED灯，

　　[0178]根据一些示例性实施例，低温治疗装置102包括至少一个流路径，例如用于将清洗

　　流体(例如气体或液体)插入内腔(例如体腔)的清洗通道114。在一些实施例中，使用清洗流

　　体(例如清洗气体)的插入来使体腔扩张，例如允许更好地可视化内腔的内表面和/或允许

　　更好地接近体腔内的所需区域，可选地被选择用于低温治疗的区域。附加地或替代地，清洗

　　流体通过可选地包括喷嘴的清洗开口喷射到处理区域中，例如以清理或吹走冷凝颗粒和/

　　或冷凝颗粒云。可选地，冷凝颗粒和/或冷凝颗粒云通过低温气体与体腔内的潮湿环境的相

　　[0179]根据一些示例性实施例，清洗通道114包括至少一个清洗开口，例如2、3、4、5、6、

　　10、100或任何较大或中间数量的清洗开口。在一些实施例中，清洗通道114包括多个清洗开

　　口。在一些实施例中，多个清洗开口或至少一些清洗开口可选地具有相同的宽度或直径。在

　　一些实施例中，至少一些清洗开口可选地为面向侧面的开口。替代地，至少一些清洗开口是

　　[0180]根据一些示例性实施例，清洗开口轴向地和/或成角度地分布在清洗通道的壁中，

　　[0181]根据一些示例性实施例，至少一个或至少一些清洗开口包括在低温治疗装置的远

　　端处的至少一个清洗开口，例如面向组织的清洗开口。在一些实施例中，至少一个清洗开口

　　可选地是面向前的清洗开口。在一些实施例中，至少一个清洗开口被构造成将流体(例如气

　　体，例如低压气体)喷射到低温治疗装置102和目标区域之间的空间中。在一些实施例中，至

　　少一个清洗开口是可调节的开口，例如以允许向目标区域侧向地或成一定角度地喷射清洗

　　流体，例如气体或液体，角度例如相对于清洗流体通道的外表面或相对于目标区域的表面

　　的预定角度。在一些实施例中，至少一个开口将清洗流体，例如气体或液体喷射到光学传感

　　[0182]根据一些示例性实施例，低温治疗装置102包括在清洗开口处的至少一个清洗导

　　向器，例如被配置成将清洗流体导向光学组件的偏转表面，例如透镜和/或进入光学传感器

　　122的FOV或进入光学通道118的FOV。可选地，至少一个清洗导向器是可调节的清洗导向器，

　　[0183]根据一些示例性实施例，清洗流入路径上的至少一个清洗流调节器被构造成可选

　　地响应于从控制单元接收的信号和/或以预定顺序，调节通过清洗开口释放的清洗流体量。

　　[0184]根据一些示例性实施例，控制单元104包括至少一个控制电路，例如控制电路126。

　　在一些实施例中，控制电路126控制低温流体流过流入路径，例如流入通道106。在一些实施

　　例中，控制电路126通过控制至少一个低温流调节器来控制低温流体的流，低温流调节器例

　　如位于流入路径内的阀和/或位于低温源134和流入通道106之间的至少一个阀。替代地或

　　附加地，控制单元104控制低温源134的至少一个阀，例如低温源134的出口阀。

　　[0185]根据一些示例性实施例，控制电路126控制通过清洗流入路径(例如清洗通道114)

　　的清洗流体的流动。在一些实施例中，控制电路126通过控制至少一个清洗流调节器来控制

　　清洗流体的流，清洗流调节器例如位于清洗流入路径(例如清洗通道114)上的阀。替代地或

　　附加地，控制电路126通过控制清洗源108和清洗通道114之间的至少一个流调节器，例如至

　　少一个阀，来控制清洗流体的流。替代地或附加地，控制电路126控制清洗源的至少一个阀，

　　例如清洗源108的出口阀。在一些实施例中，清洗源108包括泵，例如配置成压缩空气的泵。

　　[0186]根据一些示例性实施例，清洗通道114包括在清洗通道114的内腔中的至少一个减

　　流器103。在一些实施例中，减流器103的形状和尺寸形成为使清洗通道114狭窄。在一些实

　　施例中，减流器接触清洗通道的壁和/或低温流体流入通道106的壁。在一些实施例中，减流

　　器103阻塞清洗通道114内的清洗流体流的至少10％，例如至少20％、至少30％、至少50％、

　　[0187]根据一些示例性实施例，减流器的形状为与清洗通道的壁和/或低温流体流入通

　　道106的壁接触的弧形。可选地，减流器103的形状为同轴地位于清洗通道114内的管。在一

　　些实施例中，减流器103包括突起，其从清洗通道壁和/或从低温流体流入通道106的壁突出

　　[0188]根据一些示例性实施例，减流器103包括至少一个，例如多个通道，其可选地位于

　　减流器的周缘中，被构造成将清洗流体引导到体腔中。在一些实施例中，至少一个减流器通

　　道与清洗通道114的壁上的至少一个侧开口对齐。可选地，至少一个减流器通道由减流器壁

　　[0189]根据一些示例性实施例，控制电路126控制流体(例如气体和/或液体)通过流出路

　　径(例如流出通道110)从体腔流出的流。在一些实施例中，控制电路通过控制流出流调节

　　器，例如流出通道内或流出通道近端附近的流出阀，例如阀123，来控制通过流出通道110的

　　流。替代地或附加地，控制电路126控制排出泵107的启动，排出泵107例如连接到流出通道

　　的真空泵。在一些实施例中，排出泵107用于主动地将流体(例如液体和/或气体和/或颗粒)

　　通过低温治疗装置的流出路径从体腔排出。可选地，控制电路126控制至少一个排出流调节

　　器，例如连接排出泵107和流出通道的管上的排出阀。或者，通过止回阀进行排出。

　　[0190]根据一些示例性实施例，控制电路126控制光学组件，例如位于低温治疗装置102

　　上的光学传感器，例如光学传感器122。替代地或附加地，控制电路126控制控制单元104中

　　的至少一个光学传感器。在一些实施例中，控制电路126可选地通过控制光学通道118内的

　　孔来控制光学通道118的打开或关闭。在一些实施例。